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SEM
掃描式電子顯微鏡 SEM
掃描式電子顯微鏡 SEM
高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡I (Scanning Electron Microscope II, JEOL JSM-7001F)
儀器中文全名 |
3202 高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡 |
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儀器中文簡稱 |
高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡 |
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儀器英文全名 |
3202 Scanning Electron Microscope, JEOL JSM-7001F |
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儀器英文簡稱 |
SEM_7001 |
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儀器位置 |
B1/奈米檢測實驗室 |
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儀器管理人 |
賴修偉 |
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TEL |
06-2757575*31389*2 |
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hiwett@mail.ncku.edu.tw |
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技術類別 (請勾選) |
□ 微影 |
□ 蝕刻 |
□ 後處理 |
□ 薄膜成長 |
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□ 試片製備 |
□ 奈米壓痕 |
□ 掃描探針 |
¢ 掃描式電顯 |
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□ 穿透式電顯 |
□ 離子電子雙束系統 |
□ 光學顯微鏡 |
□ 光學檢測 |
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□ 晶體分析 |
□ 粒徑分析 |
□ 物理性質 |
□ 核磁共振儀 |
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□ 表面分析 |
□ 質譜儀 |
□ 進階服務 |
□ 其他 |
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應用/功能簡介 (100字內) |
本電腦化操作之高解析場發射掃描式電子顯微鏡 ,其特點為以熱場發射電子槍產生能量均 ㄧ之電子束。能提供金屬材料及電子材料等,於高倍率下之二次電子影像 (SEI)與背反電子影像(BEI)之表面型態觀察。本機台同時配置有能量分散光譜儀(EDS),可作元素成分之定性及半定量分析之工作。並附有背向散射電子繞射儀(EBSD),可以藉由背向散射電子所產生的菊池圖形,計算出電子束所照射位置之晶體的方位,藉由自動化軟體的幫助,可以對試片進行 mapping的動作,進而得到掃描區域完整的方位資訊,並利用 OIM Analysis軟體對方位資訊進行處理,進而得到定量晶體取向分析結果 ,如:ODF(orientation distribution function)、PoleFigure、Inverse Pole Figure等。 |
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廠牌/型號 |
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條列說明 重要規格 |
X axis:70nm |
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條列說明 使用規定 |
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預約系統 |
微奈米系統-自行操作: https://cfc2021.cfc.ncku.edu.tw/cmnst_e_system/index.php/facility/admin/available/list 微奈米系統-代工: |
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技術手冊 |
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桌上型掃描式電子顯微鏡 (Tabletop SEM)
儀器中文全名 |
3204桌上型掃描式電子顯微鏡 |
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儀器中文簡稱 |
桌上型電顯 |
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儀器英文全名 |
3204 Tabletop Scanning Electron Microscope |
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儀器英文簡稱 |
Tabletop SEM |
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儀器位置 |
B1檢測實驗室 |
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儀器管理人 |
賴修偉 |
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TEL |
06-2757575*31389*2 |
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hiwett@mail.ncku.edu.tw |
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技術類別 (請勾選) |
□ 微影 |
□ 蝕刻 |
□ 後處理 |
□ 薄膜成長 |
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□ 試片製備 |
□ 奈米壓痕 |
□ 掃描探針 |
¢ 掃描式電顯 |
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□ 穿透式電顯 |
□ 離子電子雙束系統 |
□ 光學顯微鏡 |
□ 光學檢測 |
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□ 晶體分析 |
□ 粒徑分析 |
□ 物理性質 |
□ 核磁共振儀 |
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□ 表面分析 |
□ 質譜儀 |
□ 進階服務 |
□ 其他 |
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應用/功能簡介 (100字內) |
二次電子影像觀察_利用電子束在試片上掃描進行影像觀察,能夠觀察材料表面微米級影像、成份對比影像等資訊,分別對於表面輪廓與原子序差異可得到良好的影像品質,可以取代光學顯微鏡,讓您更近距離弄清楚樣品由何組成。
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廠牌/型號 |
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條列說明 重要規格 |
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條列說明 使用規定 |
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預約系統 |
微奈米系統-自行操作: https://cfc2021.cfc.ncku.edu.tw/cmnst_e_system/index.php/facility/admin/available/list 微奈米系統-代工: |
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技術手冊 |
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分析型場發掃描式電子顯微鏡 (Analyiacl Field Emission SEM)
儀器中文全名 |
分析型場發掃描式電子顯微鏡 |
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儀器中文簡稱 |
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儀器英文全名 |
Analytical field emission scanning electron microscope |
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儀器英文簡稱 |
AFE-SEM |
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儀器位置 |
2樓 / 0206 |
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儀器管理人 |
劉彩芸 |
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TEL |
06-2757575#31373 |
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z10508127@email.ncku.edu.tw |
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技術類別 (請勾選) |
□ 微影 |
□ 蝕刻 |
□ 後處理 |
□ 薄膜成長 |
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▓ 試片製備 |
□ 奈米壓痕 |
□ 掃描探針 |
▓ 掃描式電顯 |
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□ 穿透式電顯 |
□ 離子電子雙束系統 |
□ 光學顯微鏡 |
□ 光學檢測 |
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□ 晶體分析 |
□ 粒徑分析 |
□ 物理性質 |
□ 核磁共振儀 |
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▓ 表面分析 |
□ 質譜儀 |
□ 進階服務 |
□ 其他 |
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應用/功能簡介 (100字內) |
本儀器由掃描式電子顯微鏡(FE-SEM)與能量散射光譜分析儀(EDS)所組成,能提供樣品在高/低加速電壓之掃描觀察,可獲得超高解析影像之能力,加速電壓15kV解析度為1nm。同時加裝EDS元素分析,以擷取高解析數位影像及成份定性、半定量等分析。 |
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廠牌/型號 |
SEM
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EDS
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條列說明 重要規格 |
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條列說明 使用規定 |
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預約系統 |
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技術手冊 |
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多功能環境場發掃描式電子顯微鏡 (Multi-Function Environmental Field Emission SEM with EDS/EBSD)
儀器中文全名 |
多功能環境場發掃描式電子顯微鏡 |
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儀器中文簡稱 |
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儀器英文全名 |
Multi-function environmental field emission scanning electron microscope with EDS and EBSD |
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儀器英文簡稱 |
EFE-SEM |
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儀器位置 |
2樓 / 0206 |
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儀器管理人 |
劉彩芸 |
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TEL |
06-2757575#31373 |
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z10508127@email.ncku.edu.tw |
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技術類別 (請勾選) |
□ 微影 |
□ 蝕刻 |
□ 後處理 |
□ 薄膜成長 |
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▓ 試片製備 |
□ 奈米壓痕 |
□ 掃描探針 |
▓ 掃描式電顯 |
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□ 穿透式電顯 |
□ 離子電子雙束系統 |
□ 光學顯微鏡 |
□ 光學檢測 |
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▓ 晶體分析 |
□ 粒徑分析 |
□ 物理性質 |
□ 核磁共振儀 |
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▓ 表面分析 |
□ 質譜儀 |
□ 進階服務 |
□ 其他 |
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應用/功能簡介 (100字內) |
本儀器為結合HITACHI SU-5000熱場效型高解析場發射掃描式電子顯微鏡、EDAX能量散射光譜儀(EDS)及電子背向繞射儀(EBSD),可做各式材料表面形貌觀察、快速元素定性、半定量及晶體結構分析等,是目前最先進之複合型電子顯微鏡之一,在應用上極為廣泛。 |
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廠牌/型號 |
SEM
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EDS
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EBSD
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條列說明 重要規格 |
Better than 1.2 nm at 30kV Better than 2.0 nm at 1KV
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條列說明 使用規定 |
SEM:
EBSD:
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預約系統 |
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技術手冊 |
高解析射掃描電子顯微鏡 (High Resolution SEM)
儀器中文全名 |
高解析掃描電子顯微鏡 |
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儀器中文簡稱 |
場發掃描電鏡 |
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儀器英文全名 |
High Resolution Scanning Electron Microscope |
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儀器英文簡稱 |
HR-SEM |
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儀器位置 |
自強校區 儀器設備大樓二樓 0208室 |
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儀器管理人 |
施慧蓉 |
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TEL |
31376分機 |
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z7306007@email.ncku.edu.tw |
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技術類別 (請勾選) |
□ 微影 |
□ 蝕刻 |
□ 後處理 |
□ 薄膜成長 |
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□ 試片製備 |
□ 奈米壓痕 |
□ 掃描探針 |
■ 掃描式電顯 |
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□ 穿透式電顯 |
□ 離子電子雙束系統 |
□ 光學顯微鏡 |
□ 光學檢測 |
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□ 晶體分析 |
□ 粒徑分析 |
□ 物理性質 |
□ 核磁共振儀 |
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□ 表面分析 |
□ 質譜儀 |
□ 進階服務 |
□ 其他 |
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應用/功能簡介 (100字內) |
顯微電鏡具有高解析的特點。本儀器為Hitachi SU8000,在高真空中操作(~10-10 torr)可得到高解析的影像(15KV;1nm解析度)。 |
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廠牌/型號 |
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條列說明 重要規格 |
1.奈米樣品表面觀察。 2.微區異物分析及組成分析。 3.奈米樣品大小與各層寬度或厚度距離量測 4.二次電子解析度:15 Kv: 1.0nm。 5.有斜插式及高感度平插式EDS提供材料分析。根據樣品及需求來設定儀器分析,包括薄膜、奈米材料、敏感性材料都可以提供分析。 |
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條列說明 使用規定 |
1.磁性樣品不收,弱磁性樣品須經評估是否可以服務。 2.毒性、揮發性、具腐蝕性的樣品不接受服務。 3.第一次預約本儀器,請事先跟技術員聯絡,討論樣品的前處理,及樣品大小規定。及是否要提前鍍金,或不鍍金,以把握上機的時間。 4.非經本儀器管理員認證通過,不得預約自行操作。 |
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預約系統 |
[請附網頁連結] |
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技術手冊 |
[請另外提供電子檔] |