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SEM

掃描式電子顯微鏡 SEM

掃描式電子顯微鏡 SEM

高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡I (Scanning Electron Microscope II, JEOL JSM-7001F)

儀器中文全名

3202 高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡

儀器中文簡稱

高解析熱場發射掃描式電子顯微鏡

儀器英文全名

3202 Scanning Electron Microscope, JEOL JSM-7001F

儀器英文簡稱

SEM_7001

儀器位置

B1/奈米檢測實驗室

儀器管理人

賴修偉

TEL

06-2757575*31389*2

E-mail

hiwett@mail.ncku.edu.tw

技術類別

(請勾選)

□ 微影

□ 蝕刻

□ 後處理

□ 薄膜成長

□ 試片製備

□ 奈米壓痕

□ 掃描探針

¢ 掃描式電顯

□ 穿透式電顯

□ 離子電子雙束系統

□ 光學顯微鏡

□ 光學檢測

□ 晶體分析

□ 粒徑分析

□ 物理性質

□ 核磁共振儀

□ 表面分析

□ 質譜儀

□ 進階服務

□ 其他

應用/功能簡介

(100字內)

本電腦化操作之高解析場發射掃描式電子顯微鏡 ,其特點為以熱場發射電子槍產生能量均 ㄧ之電子束。能提供金屬材料及電子材料等,於高倍率下之二次電子影像 (SEI)與背反電子影像(BEI)之表面型態觀察。本機台同時配置有能量分散光譜儀(EDS),可作元素成分之定性及半定量分析之工作。並附有背向散射電子繞射儀(EBSD),可以藉由背向散射電子所產生的菊池圖形,計算出電子束所照射位置之晶體的方位,藉由自動化軟體的幫助,可以對試片進行 mapping的動作,進而得到掃描區域完整的方位資訊,並利用 OIM Analysis軟體對方位資訊進行處理,進而得到定量晶體取向分析結果 ,如:ODF(orientation distribution function)、PoleFigure、Inverse Pole Figure等。

廠牌/型號

  • 廠牌:JEOL
  • 型號:JSM-7001

條列說明

重要規格

  • 解析度:1.2 nm (30 KV)、1.5 nm (15 KV)、3 nm (1 KV)
  • 放大倍率: 25x to x1,000,000x
  • 加速電壓:0.5 kV to 30 kV
  • 電流:~pA to 200 nA
  • 電子槍形態:熱場發射式電子槍
  • 試片規格:直徑 25nm 高度10 nm
  • 影像解析度:1280 × 960px
  • 試片載台:試片移動的範圍如下

  X axis:70nm
  Y axis
:50nm
  Rotation
:360°
  Z axis
:3 to 41nm
  Tilt
:-5 to +70°

條列說明

使用規定

  • 試片大小:目前本中心提供兩種不同直徑的試片底座,試片請自行做前處理的動作,取樣直徑最大不超過25 mm、最大高度10 mm。請依照規範製作,勿超出規定範圍。
    1. 12.5 mm (f) × 10(H) mm specimen
    2. 25.0 mm(f) × 10(H) mm specimen
    3. 樣品準備須知:
      1. 樣品須導電,不導電之樣品須經鍍導電膜處理。
      2. 樣品須乾燥,在真空中無揮發性。
      3. 使用者必需詳細說明試片之製作方式,若有可能造成真空腔的污染,本單位有權拒絕受理。
      4. 若因試片處理不當而造成儀器污染或損壞時,須負責賠償,賠償費用由原廠評估再由中心會議決議後執行並暫停儀器之使用權。
      5. 下列樣品,因容易對儀器造成損害,恕不受理:
        1. 試片在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之樣品。
        2. 試片含有毒性、腐蝕性、揮發性及低熔點等之試件。
        3. 具強磁性、磁性(如鐵、鈷、鎳等)或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料。
        4. 若含有上述成分不告知而導致儀器受損者,送測者須負起儀器修復責任。
        5. 委託時務必事先電話聯絡,實驗期間委託人必須在場,方便操作者跟委託人溝通。
        6. 代工指代為操作機台,中心無需負代工結果之責任。委託者確認代工單內容無誤後,除機台故障外,不得要求退費。
        7. 檔案儲存:請自行準備光碟片。

預約系統

微奈米系統-自行操作: https://cfc2021.cfc.ncku.edu.tw/cmnst_e_system/index.php/facility/admin/available/list

微奈米系統-代工:

https://cfc2021.cfc.ncku.edu.tw/cmnst_OEM/OEM_application

技術手冊

桌上型掃描式電子顯微鏡 (Tabletop SEM)

儀器中文全名

3204桌上型掃描式電子顯微鏡

儀器中文簡稱

桌上型電顯

儀器英文全名

3204 Tabletop Scanning Electron Microscope

儀器英文簡稱

Tabletop SEM

儀器位置

B1檢測實驗室

儀器管理人

賴修偉

TEL

06-2757575*31389*2

E-mail

hiwett@mail.ncku.edu.tw

技術類別

(請勾選)

□ 微影

□ 蝕刻

□ 後處理

□ 薄膜成長

□ 試片製備

□ 奈米壓痕

□ 掃描探針

¢ 掃描式電顯

□ 穿透式電顯

□ 離子電子雙束系統

□ 光學顯微鏡

□ 光學檢測

□ 晶體分析

□ 粒徑分析

□ 物理性質

□ 核磁共振儀

□ 表面分析

□ 質譜儀

□ 進階服務

□ 其他

應用/功能簡介

(100字內)

二次電子影像觀察_利用電子束在試片上掃描進行影像觀察,能夠觀察材料表面微米級影像、成份對比影像等資訊,分別對於表面輪廓與原子序差異可得到良好的影像品質,可以取代光學顯微鏡,讓您更近距離弄清楚樣品由何組成。

廠牌/型號

  • 廠牌:Hitachi
  • 型號:TM1000

條列說明

重要規格

  • 放大20〜10,000x (2x, 4x 數位變焦)
  • 加速電壓15 Kv
  • 高靈敏度固態散射探測器
  • 標準觀測模式與 Charge-up 還原模式
  • 最大試樣尺寸70 mm 直徑, 最大試樣厚度 20 mm
  • 前置盒式鎢燈絲電子槍
  • 自動啟動、對焦和亮度
  • 圖像格式 bmp、tif、jpg
  • 資料顯示: 微米標記、微米值、日期和時間、圖像數位、評論
  • 渦輪泵30升/秒,並包括過流保護功能

條列說明

使用規定

  • 試片大小:高度不得高於8 mm,大小不得大於十元硬幣。
  • 試片限制,以下試片不得進入:
  1. 試片在電子束照射下會分解、釋放氣體或成為液體之樣品。
  2. 試片含有毒性、腐蝕性、揮發性及低熔點等之試件。
  3. 具強磁性、磁性(如鐵、鈷、鎳等)或易被電磁透鏡吸引的粉末型式樣品或材料。
  4. 若含有上述成分不告知而導致儀器受損者,送測者須負起儀器修復責任。
  5. 委託時務必事先電聯,實驗期間委託人必須在場,方便操作者跟委託人溝通。
  6. 代工指代為操作機台,中心無需負代工結果之責任。委託者確認代工單內容無誤後,除機台故障外,不得要求退費。
  7. 檔案儲存:請自行準備光碟片。

預約系統

微奈米系統-自行操作: https://cfc2021.cfc.ncku.edu.tw/cmnst_e_system/index.php/facility/admin/available/list

微奈米系統-代工:

https://cfc2021.cfc.ncku.edu.tw/cmnst_OEM/OEM_application

技術手冊

分析型場發掃描式電子顯微鏡 (Analyiacl Field Emission SEM)

儀器中文全名

分析型場發掃描式電子顯微鏡

儀器中文簡稱

儀器英文全名

Analytical field emission scanning electron microscope

儀器英文簡稱

AFE-SEM

儀器位置

2樓 / 0206

儀器管理人

劉彩芸

TEL

06-2757575#31373

E-mail

z10508127@email.ncku.edu.tw

技術類別

(請勾選)

□ 微影

□ 蝕刻

□ 後處理

□ 薄膜成長

▓ 試片製備

□ 奈米壓痕

□ 掃描探針

▓ 掃描式電顯

□ 穿透式電顯

□ 離子電子雙束系統

□ 光學顯微鏡

□ 光學檢測

□ 晶體分析

□ 粒徑分析

□ 物理性質

□ 核磁共振儀

▓ 表面分析

□ 質譜儀

□ 進階服務

□ 其他

應用/功能簡介

(100字內)

本儀器由掃描式電子顯微鏡(FE-SEM)與能量散射光譜分析儀(EDS)所組成,能提供樣品在高/低加速電壓之掃描觀察,可獲得超高解析影像之能力,加速電壓15kV解析度為1nm。同時加裝EDS元素分析,以擷取高解析數位影像及成份定性、半定量等分析。

廠牌/型號

SEM

  • 廠牌:ZEISS
  • 型號:AURIGA

EDS

  • 廠牌:BRUKER
  • 型號:XFlash 5010

條列說明

重要規格

  1. 熱場效燈絲(Schottky emitter) Acceleration Voltage:加速電壓為0.1 kV ~ 30 kV
  2. 二次電子像(SE)解析度:1.0 nm @ 15 kV.   1.9 nm @ 1 kV.
  3. 倍率範圍12 X to 1,000,000 X(SE Mode)
  4. 五軸電腦馬達控制台 X 軸移動距離100 mm。Y 軸移動距離 100 mm 。Z 軸移動距離 50 mm。旋轉連續360°。T軸-10度至60度。
  5. EDS偵測範圍B~Am。Resolution:125

條列說明

使用規定

  1. 樣品直徑最大不超過50mm(最好在10mm以內為宜),最大高度20mm
  2. 如有多個樣品,請以導電之金屬載片(最大不超過50mm)依序黏貼固定好,每個樣品觀察面要同高,底部要平整
  3. 如為非金屬、粉體試件,請先做蒸鍍及固定處理
  4. 試件需不含水分、磁性、揮發性物質
  5. 本儀器拒絕受理含有毒性、腐蝕性、揮發性及低熔點等之試件
  6. 每月28日下午2:00開放下個月份使用時段(由國科會貴儀資訊管理系統預約)
  7. 若欲取消預約,請於使用日的三天前上網取消,否則需計基本使用費

預約系統

https://vir.nstc.gov.tw/Home/Index

技術手冊

 

多功能環境場發掃描式電子顯微鏡 (Multi-Function Environmental Field Emission SEM with EDS/EBSD)

儀器中文全名

多功能環境場發掃描式電子顯微鏡

儀器中文簡稱

儀器英文全名

Multi-function environmental field emission scanning electron microscope with EDS and EBSD

儀器英文簡稱

EFE-SEM

儀器位置

2樓 / 0206

儀器管理人

劉彩芸

TEL

06-2757575#31373

E-mail

z10508127@email.ncku.edu.tw

技術類別

(請勾選)

□ 微影

□ 蝕刻

□ 後處理

□ 薄膜成長

▓ 試片製備

□ 奈米壓痕

□ 掃描探針

▓ 掃描式電顯

□ 穿透式電顯

□ 離子電子雙束系統

□ 光學顯微鏡

□ 光學檢測

▓ 晶體分析

□ 粒徑分析

□ 物理性質

□ 核磁共振儀

▓ 表面分析

□ 質譜儀

□ 進階服務

□ 其他

應用/功能簡介

(100字內)

本儀器為結合HITACHI SU-5000熱場效型高解析場發射掃描式電子顯微鏡、EDAX能量散射光譜儀(EDS)及電子背向繞射儀(EBSD),可做各式材料表面形貌觀察、快速元素定性、半定量及晶體結構分析等,是目前最先進之複合型電子顯微鏡之一,在應用上極為廣泛。

廠牌/型號

SEM

  • 廠牌:HITACHI
  • 型號:SU-5000

EDS

  • 廠牌:EDAX
  • 型號:ELITE

EBSD

  • 廠牌:EDAX
  • 型號:Velocity Plus

條列說明

重要規格

Better than 1.2 nm at 30kV

Better than 2.0 nm at 1KV

  1. 熱場效燈絲(ZrO/W Schottky emission electron gun)
  2. 加速電壓:0.5KV to 30 KV
  3. 二次電子像 (SE) 解析度:
    1. EDS偵測範圍B~Am,Resolution:125 eV
    2. EBSD收集速度3000點/秒,解析度640×480

條列說明

使用規定

SEM

EBSD

  1. 樣品直徑最好在10mm以內,最大高度10mm內為宜
  2. 如有多個樣品,請以導電之金屬載片(最大不超過50mm)依序黏貼固定好,每個樣品觀察面要同高,底部要平整
  3. 若為非金屬、粉體樣品,請先做固定及鍍金等前處理
  4. 本儀器為精密設備,為維護儀器之性能,拒絕受理含有水份、磁性、腐蝕性、低熔點(高分子)、易揮發性(含鑲埋)、污染性及傳染性之樣品

    每月28日下午2:00開放下個月份使用時段(由國科會貴儀資訊管理系統預約)

    若欲取消預約,請於使用日的三天前上網取消,否則需計基本使用費

    1. 樣品須為穩定之塊材(不得為粉體、高分子及鑲埋試件),且須提供樣品已知相(phase)
    2. 樣品直徑限制在10mm以內,最大高度3mm內為宜,並請自行試片表面處理,至少於光學顯微下沒刮痕

預約系統

https://vir.nstc.gov.tw/Home/Index

技術手冊

 

高解析射掃描電子顯微鏡 (High Resolution SEM)

儀器中文全名

高解析掃描電子顯微鏡

儀器中文簡稱

場發掃描電鏡

儀器英文全名

High Resolution Scanning Electron Microscope

儀器英文簡稱

HR-SEM

儀器位置

自強校區

儀器設備大樓二樓 0208室

儀器管理人

施慧蓉

TEL

31376分機

E-mail

z7306007@email.ncku.edu.tw

技術類別

(請勾選)

□ 微影

□ 蝕刻

□ 後處理

□ 薄膜成長

□ 試片製備

□ 奈米壓痕

□ 掃描探針

■ 掃描式電顯

□ 穿透式電顯

□ 離子電子雙束系統

□ 光學顯微鏡

□ 光學檢測

□ 晶體分析

□ 粒徑分析

□ 物理性質

□ 核磁共振儀

□ 表面分析

□ 質譜儀

□ 進階服務

□ 其他

應用/功能簡介

(100字內)

顯微電鏡具有高解析的特點。本儀器為Hitachi SU8000,在高真空中操作(~10-10 torr)可得到高解析的影像(15KV;1nm解析度)。
本儀器配置EDS 可作B以上分析。本儀器亦提供成份分析,適用於材料、半導體、光電領域,對學術研究有很大的貢獻。

廠牌/型號

  • 廠牌:Hitachi
  • 型號:SU8000

條列說明

重要規格

1.奈米樣品表面觀察。

2.微區異物分析及組成分析。

3.奈米樣品大小與各層寬度或厚度距離量測

4.二次電子解析度:15 Kv: 1.0nm。

5.有斜插式及高感度平插式EDS提供材料分析。根據樣品及需求來設定儀器分析,包括薄膜、奈米材料、敏感性材料都可以提供分析。

條列說明

使用規定

1.磁性樣品不收,弱磁性樣品須經評估是否可以服務。

2.毒性、揮發性、具腐蝕性的樣品不接受服務。

3.第一次預約本儀器,請事先跟技術員聯絡,討論樣品的前處理,及樣品大小規定。及是否要提前鍍金,或不鍍金,以把握上機的時間。

4.非經本儀器管理員認證通過,不得預約自行操作。

預約系統

[請附網頁連結]

技術手冊

[請另外提供電子檔]

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